Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask - 25 ml

Upokojujúca bambusová pleťová maska Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask Určená pre citlivú a podráždenú pleť. Zloženie na báze panthenolu, madecassosidu a Centella Asiatica intenzívne upokojuje, regeneruje a hydratuje, a prináša úľavu unavenej pleti.

Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask je maska určená pre pleť, ktorá vyžaduje jemnú starostlivosť. Minimalistické zloženie s bambusovým plátnom dokonale priľne k tvári a dodáva intenzívnu dávku upokojujúcich a regeneračných aktívnych zložiek. Maska obohatená o panthenol, madekasozoid a extrakt z Centella Asiatica účinne upokojuje podráždenie, podporuje regeneráciu a poskytuje hlbokú hydratáciu. Ideálna na použitie po náročnom dni alebo ako súčasť pravidelnej starostlivosti o citlivú pleť.

Zložky, ktoré si zamilujete:

• Pantenol – intenzívne hydratuje, upokojuje a podporuje regeneráciu pleti.
• Madekasozaid – zložka z Centella Asiatica, má protizápalové a regeneračné účinky.
• Extrakt z Centella asiatica – upokojuje podráždenia a stimuluje regeneračné procesy.
• Alantoín – upokojuje podráždenú pokožku a minimalizuje začervenanie.
• Trehalóza a arginín – hydratujú, zmäkčujú a posilňujú kožnú bariéru.

Účel:

Maska určená pre citlivú, cievnu, podráždenú a suchú pokožku. Ideálna na použitie po opaľovaní, po kozmetických zákrokoch alebo keď pokožka potrebuje upokojiť a regenerovať. Vhodná na pravidelnú starostlivosť ako súčasť upokojujúcej rutiny.

Spôsob použitia:

Masku naneste na očistenú tvár, a prispôsobte jej tvar pokožke. Nechajte pôsobiť 15-20 minút, potom masku odstráňte a zvyšnú esenciu jemne vklepte do pokožky. Neoplachujte. Pred prvým použitím vykonajte test citlivosti.

Zloženie:

Voda, Dipropylénglykol,1,2-Hexanediol, Panthenol, Madecassoside, Extrakt z listov Centella Asiatica, Carbomer, Polyglyceryl-10 Laurate, Glycerín, Polyglyceryl-10 myristát, alantoín, arginín, trehalóza, etylhexylglycerín, disodný EDTA.